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HMDS烘箱,太陽能電池片HMDS烘箱

HMDS烘箱,太陽能電池片HMDS烘箱

簡要描述:

HMDS烘箱,太陽能電池片HMDS烘箱適用行業:MEMS、太陽能、電池片、濾波、放大、功率等器件,晶圓、玻璃、貴金屬,SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、金剛石等第三代半導體材料。

HMDS烘箱,太陽能電池片HMDS烘箱簡介

光伏刻蝕是太陽能電池制造過程中的重要環節,下面是一般光伏刻蝕工藝的流程:

1. 表面準備:可以采用清洗溶液、酸洗、超聲波清洗等方式。

2. 光罩/掩膜涂覆:在光伏刻蝕中,需要使用光罩或掩膜來保護不需要刻蝕的區域。光

3. 刻蝕:具體刻蝕條件(如刻蝕液的濃度、溫度、刻蝕時間等)會根據電池設計和制造要求進行控制。

4. 刻蝕后處理:后處理可能包括漂洗、清洗、脫罩等步驟,以確保電池片的質量和可靠性。

5. 光伏電池制造其他工藝:刻蝕只是太陽能電池制造的一部分,之后還需要進行光伏電池的其他工藝。

HMDS烘箱,太陽能電池片HMDS烘箱用途

光刻蝕刻加工的基本原理:

1. 光敏材料涂覆:首先,在待加工的基底表面涂覆一層光敏感材料(例如光刻膠)。該材料對于特定波長的光會發生化學或物理變化。涂覆的光敏材料形成了一個稱為“光刻膠層"的薄膜。

2. 光罩設計和準備

3. 曝光

4. 圖案形成

5. 刻蝕。

然而在光敏材料涂覆前需要將電池片基底做疏水性處理,該處理工藝需要借助HMDS增粘劑。一般通過氣相沉積的方法將HMDS處理在襯底表面。該設備為上海雋思HMDS烘箱

HMDS烘箱的性能:

溫度范圍:RT+10-200℃

真空度:≤1torr

操作界面:人機界面

工藝編輯:可儲存5個配方

氣體:N2進氣閥,自動控制

容積:定制

產品兼容性:2~12寸晶圓及碎片、方片等

適用行業:MEMS、太陽能、電池片、濾波、放大、功率等器件,晶圓、玻璃、貴金屬,SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、金剛石等第三代半導體材料。




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