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后曝光氮氣烘箱,PEB無塵烘箱
后曝光氮氣烘箱,PEB無塵烘箱

后曝光氮氣烘箱,PEB無塵烘箱所使用的高溫(100-130°C)會使光敏化合物擴散,從而消除駐波波紋.百級潔凈度無塵化,專用于半導體,集成電路。

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聚酰亞胺PI無氧烘箱,氮氣亞胺化烘箱
聚酰亞胺PI無氧烘箱,氮氣亞胺化烘箱

聚酰亞胺PI無氧烘箱,氮氣亞胺化烘箱應用于精密電子元件、PI、CPI/PBO/LCP/BCB膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求。

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氮氣烘箱,掩膜板烘箱
氮氣烘箱,掩膜板烘箱

氮氣烘箱,掩膜板烘箱在掩膜版的生產制造過程中,掩膜版基板在光阻涂布后會有一個烘烤的環節,又稱為前烘。

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水冷無氧化烘箱,高溫無氧烘箱 工業烘箱
水冷無氧化烘箱,高溫無氧烘箱 工業烘箱

水冷無氧化烘箱,高溫無氧烘箱升溫方式:程序線性升溫 降溫方式:風冷+水冷輔助降溫 氧含量:氧含量≤20ppm

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真空無氧烤箱,無氧化真空烘箱 工業烘箱
真空無氧烤箱,無氧化真空烘箱 工業烘箱

真空無氧烤箱,無氧化真空烘箱用于光刻膠BCB,聚酰亞胺PI/CPI固化,BPO固化,LCP纖維熱處理,

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前烘氮氣烘箱,硬烘潔凈烘箱 工業烘箱
前烘氮氣烘箱,硬烘潔凈烘箱 工業烘箱

前烘氮氣烘箱,硬烘潔凈烘箱優化光刻膠的光學吸收特性,提高光刻膠對襯底的黏附性

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外延片烘箱,氮氣潔凈烘箱 工業烘箱
外延片烘箱,氮氣潔凈烘箱 工業烘箱

外延片烘箱,氮氣潔凈烘箱延片將所述外延片放入烘箱中,在120℃~140℃的溫度下,將所述外延片烘烤10~30分鐘

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